hth官方网址:我国振华集团云科电子请求金属膜层湿法刻蚀办法及其刻蚀夹具专利完成高精度、高笔直度、高均匀性和高效率的湿法

　　国家知识产权局信息数据显现，我国振华集团云科电子有限公司请求一项名为“一种金属膜层湿法刻蚀办法及其刻蚀夹具”的专利，公开号CN121665926A，请求日期为2025年12月。

　　专利摘要显现，一种金属膜层湿法刻蚀办法及其刻蚀夹具，归于金属膜刻蚀技术领域。所描绘的办法包含：获取在晶圆衬底或陶瓷基板上已构成金属膜层的产品；旋涂光刻胶并光刻出所需图形；将产品放置于刻蚀夹具中，并将夹具装入刻蚀设备；榜首段刻蚀；去离子水浸泡和喷淋去除产品残留刻蚀液；第二段刻蚀；去离子水槽冲刷去除刻蚀液。结合相应匹配的批量刻蚀夹具，夹具规划为能够承载产品（待刻蚀件）在刻蚀液中360°旋转刻蚀，以添加刻蚀速率和刻蚀均匀性。以此来完成高精度、高笔直度、高均匀性和高效率的湿法刻蚀。处理了现有槽式刻蚀金属膜产能低、侧蚀导致图形笔直度差、图形加工精度差、刻蚀均匀性差、夹具兼容性差的问题。大范围的应用于金属膜刻蚀技术领域中。

　　天眼查资料显现，我国振华集团云科电子有限公司，成立于2005年，坐落贵阳市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本32475.96万人民币。经过天眼查大数据分析，我国振华集团云科电子有限公司参加招投标项目466次，产业线条，此外企业还具有行政许可19个。

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